Den kemiska mekaniska polermaskinen är ett processtestinstrument som används inom områdena elektronik och kommunikationsteknik, flyg- och rymdvetenskap och teknik
Använd avjoniserat vatten för att klistra in kiselwafers eller använd vakuumadsorptionskiselwafers för polering, överge det traditionella sättet att vaxa och klistra in kiselwafers, vilket bidrar till rengöring av kiselwafers efter polering. 2. Med mottrycksfunktion kan den förbättra poleringens enhetlighet avsevärt. 3. Utrustad med ett slutpunktsdetekteringssystem för polering för att förhindra överpolering. Med SiO2 som ett exempel, WIWNU (in-chip olikformighet) Mindre än eller lika med 3 procent , WTWNU (in-chip olikformighet) Mindre än eller lika med 5 procent och RMS (20μm ×20μm) är mindre än 0,4nm.
